分布：釉质内2/3弯曲;牙切缘及牙尖处弯曲更明显。

　　作用：增强釉质对咬合力的抵抗。

　　(二)施雷格线 (Schreger line)

　　落射光观察牙纵磨片:可见宽度不等的明暗相间带.这些明暗带称为施雷格线 .

　　分布:釉质内4/5处.

　　原因:釉柱排列方向的规律性改变而产生的折光现象.

　　暗区釉柱的横断区;

　　亮区釉柱的纵断区.

　　(三)无 釉 柱 釉 质(rodless enamal)

　　分布：在近釉牙本质界最先形成的釉质和多数乳牙及恒牙表面约30μm处,均看不到釉柱结构. 高分辨率电镜下可见晶体平行排列。

　　原因：内层:可能是成釉细胞在最初分泌釉质时,Tomes突尚未形成.

　　外层:可能是成釉细胞分泌活动停止及Tomes突退缩所致.

　　提示: Tomes突形成的重要性.